A Structural and Electrical Comparison of BCl and BF 2 Ion‐Implanted Silicon

作者： M. Delfino , M. E. Lunnon

关键词: Inorganic chemistry 、 Silicon 、 Annealing (metallurgy) 、 Secondary ion mass spectrometry 、 Analytical chemistry 、 Chemistry 、 Ion implantation 、 Ion 、 Transmission electron microscopy

摘要: Etude par microscopie electronique des zones amorphes produites implantation BCl + et BF 2 . comparative du recuit a 900°C pendant 30 minutes. Caracteristiques diodes fabriquees