Grundstrukturen und Anwendungen
作者： Friedemann Völklein , Thomas Zetterer
DOI: 10.1007/978-3-322-91572-6_3
关键词:
摘要: Erste mikromechanische Funktionselemente und Komponenten wurden unter Anwendung der Silizium-Halbleitertechnologie bereits Anfang 60er Jahre entwickelt gefertigt: 1962 Siliziumwafer als Verformungskorper mit integrierten Piezowiderstanden realisiert [Tufte62]. Als kommerziell erfolgreiche Produkte kamen seit Beginn 70er Drucksensoren auf den Markt, bei denen Silizium-Membranen Sensorelemente bipolaren Schaltungen verknupft waren. Breite finden inzwischen Beschleunigungssensoren (z.B. in Airbag-Systemen), die Tragheitskraft einer „seismischen Mikro-Masse“ zur Auslenkung eines mikromechanischen Verformungskorpers fuhrt. Diese ist eine Funktion Beschleunigung wird meist kapazitiv oder piezoresistiv detektiert.
springer.com
sci-hub.st 参考文章(140)
Ivor Brodie, Julius J. Muray, The Physics of Microfabrication ,(1982)
Henry Baltes, Johannes Bühler, Deformable micromirror arrays by CMOS technology Physical Electronics Laboratory. ,(1997) , 10.3929/ETHZ-A-001793787
R. Peters, H.-G. Düsterwald, B. Höhlein, J. Meusinger, U. Stimming, Scouting Study About the Use of Microreactors for Gas Supply in a PEM Fuel Cell System for Traction Springer, Berlin, Heidelberg. pp. 27- 34 ,(1998) , 10.1007/978-3-642-72076-5_4
Mathias Gerner, Realisierung nichtlinear-mikrooptischer Demonstratoren unter Verwendung der LIGA-Technik und deren Charakterisierung DDD, Diss.-Dr.. ,(1996)
Henry Baltes, Andreas Martin Häberli, Compensation and Calibration of IC Microsensors Physical Electronics Laboratory. pp. 243- 267 ,(1997) , 10.3929/ETHZ-A-001793813
S. Park, W.H. Ko, J.M. Prahl, A constant flow-rate microvalve actuator based on silicon and micromachining technology IEEE Technical Digest on Solid-State Sensor and Actuator Workshop. pp. 136- 139 ,(1988) , 10.1109/SOLSEN.1988.26460
René Lenggenhager, CMOS thermoelectric infrared sensors ETH Zürich. ,(1994) , 10.3929/ETHZ-A-001369178
Martin von Arx, Thermal properties of CMOS thin films Hartung-Gorre Verlag. ,(1998) , 10.3929/ETHZ-A-002004058
H. Seidel, L. Csepregi, A. Heuberger, H. Baumgärtel, Anisotropic Etching of Crystalline Silicon in Alkaline Solutions II . Influence of Dopants Journal of The Electrochemical Society. ,vol. 137, pp. 3626- 3632 ,(1990) , 10.1149/1.2086278
K. F. Jensen, I-Ming Hsing, R. Srinivasan, M. A. Schmidt, M. P. Harold, J. J. Lerou, J. F. Ryley, Reaction Engineering for Microreactor Systems Proceedings of the First International Conference on Microreaction Technology (IMRET-1), Frankfurt Germany. pp. 2- 9 ,(1998) , 10.1007/978-3-642-72076-5_1