Piezoelectric aluminium nitride thin films by PECVD

摘要: Des couches minces polycristallines de nitrure d’aluminium ont ete produites en utilisant une technique depot chimique phase vapeur assiste par plasma micro-onde. La distance - injecteur, la temperature du substrat et polarisation RF porte les principales variables pour arriver a ce but. Dans un meme temps, il possible controler l’orientation preferentielle comme ou , interessantes des applications piezoelectriques. Les mecanismes croissance qui conduit au developpement microstructures dans differentes conditions expliques, comparaison avec physique pulverisation cathodique permis d’enricher discussion. performances piezoelectriques obtenues caracterisees construction dispositifs electroacoustiques d’onde surface volume. orientees montre reponse piezoelectrique vitesse acoustique adequates. Par contre, n’ont pas configurations testees. Une analyse exhaustive conduite expliquer possibles raisons ces comportements.