Polyreaktionen an pigmentoberflächen VIII. Sedimentationseigenschaften von hochdispersem siliciumdioxid mit kovalent gebundenem polystyrol

摘要: Die Partikelassoziation von hochdispersem Siliciumdioxid in dem relativ unpolaren Losungsmittel Toluol wird durch kovalent gebundene Polystyrolmolekule, nicht jedoch adsorbiertes Polystyrol eingeschrankt. Bei Anwesenheit n-Butanol das Sedimentationsverhalten mit gebundenem die Polymerschicht, adsorbiertem coadsorbierte Additiv bestimmt. The association of particles high disperse silica the non polar solvent toluene is restricted by covalently bound polystyrene but not adsorbed polystyrene. The sedimentation behaviour presence n-butanol determined polymeric layer case with polystyrene, coadsorbed additive