作者: M. Chavarria , F. Fonthal
DOI: 10.1002/9780470528990.CH13
关键词: Dielectric permittivity 、 Electronic engineering 、 Porous silicon 、 Characterization (materials science) 、 Gate dielectric 、 Dielectric 、 Electrochemical etching 、 Relaxation (physics) 、 Materials science 、 Composite material
摘要: