J. D. Benson, A. J. Stoltz, P. R. Boyd, M. Martinka, J. B. Varesi, L. A. Almeida, K. A. Olver, A. W. Kaleczyc, S. M. Johnson, W. A. Radford, J. H. Dinan,
Lithography factors that determine the aspect ratio of electron cyclotron resonance plasma etched HgCdTe trenches Journal of Electronic Materials. ,vol. 32, pp. 686- 691 ,(2003) ,
10.1007/S11664-003-0053-Y