Agencement optique pour un appareil d'exposition à projection d'uv extrêmes et procédé de refroidissement d'un composant optique
作者： Willi Anderl , Markus Bauer , András G. Major , Holger Kierey , Severin Waldis
DOI:
关键词:
摘要: La presente invention concerne un agencement optique (80) pour appareil d'exposition a projection d'UV extremes qui comprend composant (82), substrat (84) et une surface (86) sur cote du (84), laquelle est optiquement operationnelle dans l'intervalle spectral des UV extremes, dispositif de refroidissement (90) le ledit possedant milieu (94). Le materiau dont la conductivite thermique temperature T s << 0 °C superieure 50 W -1 K coefficient d'expansion inferieur 3 * 10 -6 , (94) possede but refroidir .
参考文章(2)
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