作者: Qi Wang , Eugene Iwaniczko , A. H. Mahan , D. L. Williamson
DOI: 10.1557/PROC-507-903
关键词: Chemical engineering 、 Chemical vapor deposition 、 Microcrystalline silicon 、 Plasma-enhanced chemical vapor deposition 、 Thin film 、 Monocrystalline silicon 、 Combustion chemical vapor deposition 、 Nanocrystalline silicon 、 Materials science 、 Hybrid physical-chemical vapor deposition
摘要: