Thermal stresses in heteroepitaxial beta silicon carbide thin films grown on silicon substrates
作者： H. P. Liaw , R. F. Davis
DOI: 10.1149/1.2115458
关键词:
摘要:
harvard.edu
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作者： H. P. Liaw , R. F. Davis
DOI: 10.1149/1.2115458
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