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作者: Tatsuhiko Aizawa
DOI: 10.5772/INTECHOPEN.79143
关键词: Plasma 、 Composite material 、 Chemical vapor deposition 、 High density 、 Materials science 、 Post treatment
摘要:
2018 IEEE BiCMOS and Compound Semiconductor Integrated Circuits and Technology Symposium (BCICTS),2018, 引用: 2
,2021, 引用: 1